分辨率指能分辨的兩點之間的最小距離。分辨率d可以用貝克公式表示:d=0.61l/nsina ,a為透鏡孔徑半角,l為照明樣品的光波長,n為透鏡與樣品間介質折射率。對光學顯微鏡 a=70°-75°,n=1.4。因為 nsina<1.4,而可見光波長范圍為: 400nm-700nm="" 0.5l="" d="">200nm。要提高分辨率可以通過減小照明波長來實現。SEM是用電子束照射樣品,電子束是一種De Broglie波,具有波粒二相性,l=12.26/V0.5(伏) ,如果V=20kV時,則l=0.0085nm。目前用W燈絲的SEM,分辨率已達到3nm-6nm, 場發射源SEM分辨率可達到1nm 。高分辨率的電子束直徑要小,分辨率與子束直徑近似相等。
影響掃描電鏡的分辨率的主要因素有:
1.入射電子束束斑直徑:為掃描電鏡分辨率的極限。一般,熱陰極電子槍的最小束斑直徑可縮小到6nm,場發射電子槍可使束斑直徑小于3nm。
2.入射電子束在樣品中的擴展效應:擴散程度取決于入射束電子能量和樣品原子序數的高低。入射束能量越高,樣品原子序數越小,則電子束作用體積越大,產生信號的區域隨電子束的擴散而增大,從而降低了分辨率.
3.成像方式及所用的調制信號:當以二次電子為調制信號時,由于其能量低(小于50 eV),平均自由程短(10~100 nm左右),只有在表層50~100 nm的深度范圍內的二次電子才能逸出樣品表面, 發生散射次數很有限,基本未向側向擴展,因此,二次電子像分辨率約等于束斑直徑。當以背散射電子為調制信號時,由于背散射電子能量比較高,穿透能力強,可從樣品中較深的區域逸出(約為有效作用深度的30%左右)。在此深度范圍,入射電子已有了相當寬的側向擴展,所以背散射電子像分辨率要比二次電子像低,一般在500~2000nm左右。如果以吸收電子、X射線、陰極熒光、束感生電導或電位等作為調制信號的其他操作方式,由于信號來自整個電子束散射區域,所得掃描像的分辨率都比較低,一般在l 000 nm或l0000nm以上不等。
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