掃描電鏡近況及其進展

掃描電子顯微鏡的設計思想和工作原理，早在1935年已經被提出來了，直到1956年才開始生產商品掃描電鏡。商品掃描電鏡的分辨率從第一臺的25nm提高到現在的0.8nm，已經接近于透射電鏡的分辨率，現在大多數掃描電鏡都能同X?射線波譜儀、X?射線能譜儀和自動圖像分析儀等組合，使得它是一種對表面微觀世界能夠進行全面分析的多功能的電子光學儀器。數十年來，掃描電鏡已廣泛地應用在材料學、冶金學、地礦學、生物學、醫學以及地質勘探，機械制造、生產工藝控制、產品質量控制等學科和領域中，促進了各有關學科的發展。

   隨著納米材料的出現，原有的鎢燈絲掃描電鏡由于分辨率低，不能滿足納米材料分析檢測的要求，之后，電鏡生產廠家推出了場發射掃描電子顯微鏡，使掃描電鏡的分辨率提高到了0.8nm。場發射掃描電子顯微鏡又分為冷場場發射掃描電子顯微鏡和熱場場發射掃描電子顯微鏡，它們的共性是分辨率高。熱場發射掃描電鏡的束流大且穩定，適合進行能譜分析，但維護成本和要求高；冷場發射掃描電鏡的束流小且不穩定，適合于做表面形貌觀察，不適合能譜分析，相對而言維護成本和要求要低一些。環境掃描電鏡的特點是對于生物樣品、含水樣品、含油樣品，既不需要脫水，也不必進行導電處理，可在自然的狀態下直接觀察二次電子圖像并分析元素成分。