新一代HBLED批量生產設備

　　牛津等離子部生產出PlasmaProTM NGP?1000 HBLED等離子體刻蝕和沉積設備，為HBLED制造業帶來極大的好處。業界領先的大規模生產能力生產從61 x 2"到 7 x 6"尺寸的晶片以高品質的設備性能和產量相結合，意味著牛津儀器能夠為客戶提供一種特殊的HBLED生產。

　　NGP1000是針對提高吞吐量而專門設計的，最大限度地提高正常運行時間并減少了通過可靠硬件易用性服務的總成本。該NGP1000平臺進行了優化批量生產，具有標準真空負荷鎖，開路負載和四面群集選項都可用。

　　牛津儀器等離子部銷售總監Mark Vosloo先生提到從電視到普通照明都是高亮度LED（,高亮度發光二極管）現在是我們生活中不可或缺的部分，為越來越多的背光照明應用提供解決方案。工業無可非議地需要大規模吞吐量、提高品質和降低總成本，NGP1000恰好滿足這些要求.

　　在高產量的等離子設備產品市場上,牛津儀器等離子技術作為世界領先級的供應商已超過15年的歷史，擁有廣泛的HBLED生產系統的安裝基礎。隨著行業的不斷發展，我們有技術和專業知識，提供最先進的解決方案給我們的客戶。"

　　該等離子體處理系統 系統是專為二氧化硅和氮化硅層的沉積，并采用了大面積電極和優化噴頭設計，可允許多達61 x 2", 15 x 4"或7 x 6"單一負載。該等離子體蝕刻系統，為氮化鎵，磷化鋁鎵銦和藍寶石蝕刻設計，提供了批量達55 x 2", 13 x 4" 或5 x 6",產生產量領先的晶片。

　　優秀的大面積均勻性提供了新推出的60MHz ViperTM等離子體源。這種創新的源等離子體的密度達到相當的ICP來源，保持高蝕刻率和低損傷的好處。

　　以我們在最小的規模內分析和處理問題的能力, 這一最新系統的開發進一步證明了牛津儀器公司的目標是成為工業和研究市場新一代工具和系統的領先供應商

　　該公司利用創新成為世界級的產品智能科學的研究和工業的支持，以解決21世紀的巨大挑戰。

2010年10月18日