電子束蒸發可以蒸發高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發熱效率高、 束流密度大、蒸發速度快,制成的薄膜純度高、質 量好,厚度可以較準確地控制,可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。電子束蒸發的特點是不會或很少覆蓋在目標三維結構的兩側,通常只會沉積在目標表面。這是電子束蒸發和濺射的區別。
崔紹暉,符庭釗,王歡,夏洋,李超波1.中國科學院微電子研究所,北京100029;2.中國科學院大學,北京100049;3.集成電路測試技術北京市重點實驗室,北京100088摘要:為了實現低成本高靈敏度......