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  • 發布時間:2021-12-03 13:17 原文鏈接: 電鍍設備的工藝要求

      1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應有良好的結合力。

      2. 鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。

      3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。

      4. 鍍層應具有規定的各項指標,如光亮度、硬度、導電性等。

      5. 電鍍時間及電鍍過程的溫度,決定鍍層厚度的大小。

      6.環境溫度為-10℃~60℃。

      7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

      8.水處理設備最大工作噪聲應不大于80dB(A)。

      9.相對濕度(RH)應不大于95%。

      10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。

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