幾秒內！顯微鏡投影光刻實現高分辨率制造
最新發表在《光：先進制造》上的一篇新論文中，德國漢諾威萊布尼茨大學科學家開發了一種低成本且用戶友好的制造技術——基于UV—LED的顯微鏡投影光刻（MPP），能在幾秒鐘內以快速高分辨率制造光學元件。這種方法能在紫外光照射下，將光掩模上的結構圖案轉移到光刻膠涂層的基板上。A：采用基于UV—LED的顯微鏡投影光刻系統的草圖；B：工藝鏈示意圖，包括從結構設計到最終投影光刻的步驟；C：使用MPP制造的高分辨率光柵；D：通過MPP實現的低于200納米的特征尺寸。上部和下部所示的線條分別使用昂貴的物鏡和經濟物鏡制造。圖片來源：《光：先進制造》 集成的光信號想要實現多種功能，都離不開基本光學元件的小型化，例如波導、分路器、光柵和光開關。這也意味著需要一種能實現高分辨率制造的方法。 目前已存在幾種用于亞波長高分辨率制造的技術，例如直接激光寫入、多光子光刻、電子束光刻、離子束光刻和多米諾骨牌光刻，然而，這些技術均成本高昂、復雜且耗時。納米壓......閱讀全文
幾秒內！顯微鏡投影光刻實現高分辨率制造
最新發表在《光：先進制造》上的一篇新論文中，德國漢諾威萊布尼茨大學科學家開發了一種低成本且用戶友好的制造技術——基于UV—LED的顯微鏡投影光刻（MPP），能在幾秒鐘內以快速高分辨率制造光學元件。這種方法能在紫外光照射下，將光掩模上的結構圖案轉移到光刻膠涂層的基板上。A：采用基于UV—LED的顯
投影式光刻機簡介
投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光方法。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，載有掩模的工件臺在狹縫下沿著一個方向移動，等價于曝光系統對掩模做了掃描，與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度
光刻機投影式曝光分類
掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸； 步進重復投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～
電子束光刻投影電子束掃描系統
掃描式電子束曝光系統可以得到極高的分辨率，但其生產率較低，不能滿足大規模生產的需要。成形束系統生產率固然有所提高，但其分辨率一般在0.2μm左右，難以制作納米級圖形。近年來研發的投影電子束來曝光系統，既能使曝光分辨率達到納米量級，又能大大提高生產率，且不需要鄰近效應校正。在研制中的投影式電子束曝
飛秒激光多光子聚合增材制造加工精度調控研究中獲進展
近期，中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜光學實驗室在優化飛秒激光多光子聚合（MPP）增材制造加工精度調控研究中取得進展。科研人員利用對光刻膠中引發劑濃度的調控實現對聚合產物極限尺寸的有效控制，揭示了多光子聚合光化學反應過程中的擴散行為，相關研究成果發表在《光學材料》上。 基于飛秒激光多光子聚
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
投影術
中文名稱投影術英文名稱shadow casting定 義電子顯微鏡中一種重要的增強背景和待觀察樣品反差的方法。即將樣品置于云母的表面，然后干燥;在真空裝置中將樣品鍍上一層重金屬(金或鉑金)，然后鍍上一層碳原子，以增加鑄型的強度和穩定性;再將鑄型置于酸池中，破壞樣品，只留下金屬鑄型;漂洗后置于載網上
費歇爾投影式的投影規則
為了作出統一的分子構型表達式，費歇爾曾制定了三條投影規則： (1)將碳鏈放在垂直線上或豎起來，把氧化態較高的碳原子或命名時編號最小（主鏈中第一號）的碳原子C1放在最上端。 (2)投影時假定手性碳原子放在紙平面上，與垂直線(vertical line)相連的原子或基團（垂直方向的鍵 /豎鍵）表
光刻機原理
光刻機原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到晶圓上，最后形成芯片。就好像原本一個空空如也的大腦，通過光刻技術把指令放進去，那這個大腦才可以運作，而電路圖和其他電子元件就是芯片設計人員設計的指令。光刻機就是把芯片制作所
光刻機原理
光刻機原理： 是利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。光刻是集成電路最重要的
光刻機有哪些品牌？
光刻機的品牌眾多，根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類： 高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制
光刻機是什么
光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補
光刻機是什么東西
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的品牌眾多，根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常
熱點回應丨冷凍電鏡如何“跨界”助力芯片光刻取得新突破
光刻技術是推動芯片制程工藝持續微縮的核心驅動力之一。近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及其合作者在《自然-通訊》上披露了他們的新發現。該團隊通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態下解析了光刻膠分子在液相環境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為，指導開發出可顯著減少光刻缺陷的產業化方
顯微投影術簡介
中文名稱投影術英文名稱shadow casting定 義電子顯微鏡中一種重要的增強背景和待觀察樣品反差的方法。即將樣品置于云母的表面，然后干燥;在真空裝置中將樣品鍍上一層重金屬(金或鉑金)，然后鍍上一層碳原子，以增加鑄型的強度和穩定性;再將鑄型置于酸池中，破壞樣品，只留下金屬鑄型;漂洗后置于載網上
投影鏡的定義
中文名稱投影鏡英文名稱projection lens定 義將物或第一次像放大成像并投影在屏上的透鏡。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
購買投影儀時要了解投影機使用方式
投影儀廣泛應用于家庭、辦公室、學校和娛樂場所，根據工作方式不同，有CRT，LCD，DLP等不同類型。如何挑選一部價位合理，功能適用的家用投影機呢？ 了解投影機使用方式 用戶在選擇購買投影機之前，要熟悉投影機的使用方式，投影機在使用時分為臺面正向投射、天花板吊頂正向投射、臺面背面投射、吊頂背面
費歇爾投影式和紐曼投影式互換規律
費歇爾投影式和紐曼投影式互換規律：(1)費歇爾投影式十字架下方的碳對應紐曼投影式的前碳，費歇爾投影式十字架上方的碳對應紐曼投影式的后碳；(2)費歇爾投影式轉化為紐曼投影式時，先畫出全重疊構象，再分別旋轉前、后碳得到所需構型；(3)紐曼投影式轉化為費歇爾投影式時，先將紐曼投影式旋轉成全重疊構象，然后在
手持光刻機如何使用
手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；光刻（photolithography）工藝是將掩膜版（光刻版）上的幾何圖形轉移到晶圓表面的光刻膠上。首先光刻膠處理設備把光刻膠旋涂到晶圓表面，再經過分步重復曝光和顯影處理之后，在晶圓上形
應用光學國家重點實驗室2016年開放基金申請
一、實驗室簡介 應用光學國家重點實驗室是我國設立最早的國家重點實驗室之一，始建于1986年，于1990年完成正式驗收。依托單位為中國科學院長春光學精密機械與物理研究所。 應光室一直堅持面向國際學科發展前沿開展應用基礎及關鍵技術研究，積極面向國家需求承擔大科學工程任務，在實際研究工作中解決了
軟X射線的發展背景
軟X射線投影光刻技術是現有可見-近紫外投影光刻技術向軟X射線波段(1～30nm)的延伸。但是，由于此波段任何材料的折射率均接近于1，而且吸收較大，微縮投影光學系統必須采用反射系統，而單層膜反射鏡對正入射軟X 射線的反射率幾乎為零，無法利用其組成正入射系統。70年代后，隨著超光滑表面加工技術和超薄
光刻壟斷難解，技術難在哪？
經常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～第一步驟的晶體生長機晶片的制造，我們上篇已經聊過了。今天我們要聊的是光刻，我們先簡單聊一聊硅的氧化（熱氧化），刻蝕的話我們后面再講。硅的氧化其中包含了在分立器件和集
光刻法的功能介紹
如彩色濾光膜制作時顏料分散法和染色法采用的光刻法。它是將顏料或染料分散在感光膠中，通過掩膜曝光，被曝光部分感光膠聚合，變成非水溶性膠膜在顯影時留下，其余部分被沖洗掉，如此重復3次，形成三色彩色濾光膜。
激光刻劃的定義
中文名稱激光刻劃英文名稱laser grooving and scribing定 義利用聚焦后高能量密度的激光束，對被加工表面刻槽或劃線的方法。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），激光器件和激光設備-激光應用（三級學科）
光刻機的概述
光刻機（Mask Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大
光刻機工作原理
1、測量臺、曝光臺：是承載硅片的工作臺。2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。6
佳能光刻機共享
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
光刻機的分類
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動 A 手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了； B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧； C 自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循